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專業從事:精密金屬蝕刻元件加工制造

PCB外層電路的蝕刻工藝


  在印制電路加工中﹐氨性蝕刻是一個較為精細和覆雜的化學反應過程, 卻又是一項易于進行的工作。 只要工藝上達至調通﹐就可以進行連續性的生產, 但關鍵是開機以后就必需保持連續的工作狀態﹐不適宜斷斷續續地生產。 蝕刻工藝對設備狀態的依賴性極大, 故必需時刻使設備保持在良好的狀態。 目前﹐無論使用何種蝕刻液﹐都必須使用高壓噴淋﹐而為了獲得較整齊的側邊線條和高質量的蝕刻效果﹐對噴嘴的結構和噴淋方式的選擇都必須更為嚴格。
  對于優良側面效果的制造方式﹐外界均有不同的理論、 設計方式和設備結構的研究, 而這些理論卻往往是人相徑庭的。 但是, 有一條最基本的原則已被公認并經化學機理分析證實﹐就是盡速讓金屬表面不斷地接觸新鮮的蝕刻液。 在氨性蝕刻中﹐假定所有參數不變﹐那么蝕刻的速率將主要由蝕刻液中的氨(NH3)來決定。 因此, 使用新鮮溶液與蝕刻表面相互作用﹐其主要目的有兩個﹕沖掉剛產生的銅離子及不斷為進行反應供應所需要的氨(NH3)。
  在印制電路工業的傳統知識里﹐特別是印制電路原料的供貨商們皆認同﹐并得經驗證實﹐氨性蝕刻液中的一價銅離子含量越低﹐反應速度就越快。 事實上﹐許多的氨性蝕刻液產品都含有價銅離子的特殊配位基(一些復雜的溶劑)﹐其作用是降低一價銅離子(產品具有高反應能力的技術秘訣)﹐可見一價銅離子的影響是不小的。 將一價銅由5000ppm降至50ppm, 蝕刻速率即提高一倍以上。
  由于在蝕刻反應的過程中會生成大量的一價銅離子, 而一價銅離子又總是與氨的絡合基緊緊的結合在一起﹐所以要保持其含量近于零是十分困難的。 而采用噴淋的方式卻可以達到通過大氣中氧的作用將一價銅轉換成二價銅, 并去除一價銅, 這就是需要將空氣通入蝕刻箱的一個功能性的原因。 但是如果空氣太多﹐又會加速溶液中的氨的損失而使PH值下降﹐使蝕刻速率降低。 氨在溶液中的變化量也是需要加以控制的, 有一些用戶采用將純氨通入蝕刻儲液槽的做法, 但這樣做必須加一套PH計控制系統, 當自動監測的PH結果低于默認值時﹐便會自動進行溶液添加。
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