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專業從事:精密金屬蝕刻元件加工制造

簡單描述金屬蝕刻的基本內容


   金屬蝕刻(etching)是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。金屬蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩類。金屬蝕刻材料:優質不銹鋼、金屬、合金薄板或帶、一般厚度為0.5mm。制作工藝:化學法浸蝕。技術標準:機械制作的最小的絲徑0.02mm,蝕刻面積為500mm*600mm,材料厚度為0.02mm-0.5mm。金屬蝕刻用途:金屬蝕刻用于集成電路印刷,熒光屏電子格柵,精確過濾,微電極元件,電子行業的平面引腳、引線框架、基片等。還可制造標牌、商標及精美工藝品。
金屬蝕刻技術優勢:1金屬蝕刻技術改進了傳統的金屬處理方法。2、這種金屬蝕刻技術可以通過數據,圖表.設計及復雜的柱狀等來加工凹凸的金屬產品。3、蝕刻技術可以用于制作為孔型及各種形式。金屬蝕刻技術廣泛應用于集成電路、熒光顯示屏、精確過濾、微電極等方面。
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